【年度重磅艺术设计EI会议】第五届艺术设计与数字化技术国际学术会议 (ADDT 2026)

一、基本信息

会议时间：2026年6月5日-7日

会议地点：中国·成都

录用通知：投稿后1周

提交检索：EI Compendex，Scopus，CNKI知网

二、主办单位

西华大学

三、会议背景

第五届艺术设计与数字化技术国际学术会议（ADDT 2026）将于2026年6月5-7日在中国成都盛大举办。自2022年创始以来，该会议已连续成功举办四届，由全球顶尖艺术与科技高校和研究机构联合主办。

会议汇聚了来自世界各地的顶尖专家学者，分享在艺术设计和数字化技术领域的最新科技成果和研究进展，成为展示学术成果、推动国际合作与交流的重要平台。

四、会议主题

本届会议以 “数字化时代的创新艺术与设计实践” 为主题，强调跨学科合作与创新思维的应用。会议内容涵盖多个研究方向：

虚拟现实与增强现实技术在艺术创作中的应用

数字媒体与互动设计

智能化设计工具的发展

数字化艺术教育

创意产业与科技融合

人工智能与艺术表达

文化遗产的数字化保护

五、征稿范围

艺术设计

数字化技术

艺术设计与数字化技术交叉融合

六、论文出版

本会议所接收的投稿经过2-3位组委会专家的严格审稿后，最终录用的论文将择优推荐至同期会议，由 ACM International Conference Proceedings Series 正式出版，见刊后提交 EI Compendex，Scopus 检索。

七、投稿须知

篇幅要求：论文不得少于6页

语言要求：会议仅接受全英稿件。如需翻译服务，请联系会议负责人

原创性：论文应具有学术价值，未在国内外学术期刊或会议发表过